標題：于固體表面和鍍層中元素組成和分析的光譜技術
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時間:2017-7-8 2:03:26
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正文:
于固體表面和薄膜中元素組成和分析的光譜技術
固體光譜技術
大部分光譜學技術如x射線熒光、光學和紅外光譜的樣品制備一
般只涉及切割和安裝等極少的過程。波長色散光譜(WDS)和能量色
散光譜(EDS)等光譜技術是在掃描電子顯微鏡和透射電子顯微鏡的
光譜分析中實現(xiàn)的，因此其樣品制備與掃描電子顯微鏡和透射電子
顯微鏡完全相同
在最近的數(shù)十年中，用于固體表面和薄膜中元素組成和化學狀
態(tài)分析的光譜技術迅猛發(fā)展。這種發(fā)展部分源于大量的有關表面或
界面的問題需要利用光譜技術來解決，如集成電路的性能、復合材
料的可靠性、腐蝕、納米結構的成分等。光譜設備既有作為配件使
用的獨立單元，也有建立在特殊裝配場所的復雜技術體系。然而其
基本原理和對樣品制備技術的基本要求是一樣的。
分析固體表面組成和化學性質最常用的光譜學技術是光電子能
譜法(XPS)、俄歇電子能譜法(簡稱AES)，二級離子質譜分析法(SIM
S)和離子散射能譜法(ISS)。其中前兩個是用于外表面(10～20A)定
量分析最常用的方法。所有這些技術都是用一個粒子探針(電子、
光子或離子)碰撞表面，然后分析發(fā)射的粒子能量：在XPS中，探針
是x射線光子，檢測的粒子是由其發(fā)射的光電子。在AES中，探針是
電子，檢測到的特征粒子是能量更低的電子。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
特別聲明：本文出自北京上光儀器有限公司-未經(jīng)允許請勿轉載，本文地址：http://www.bjsgyq.com/news/10018.html
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