標(biāo)題：涂層材料來源、變化和厚度計(jì)量光學(xué)顯微鏡
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作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2017-10-4 19:17:40
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正文:
涂層材料來源、變化和厚度計(jì)量光學(xué)顯微鏡
精確性
為了達(dá)到最佳精確度，注意三個(gè)引起誤差的因素很重要：涂層
材料的來源、背景變化和干擾。盡管尚不能解釋原因，但已注意到
來自不同供應(yīng)商的硅元素靈敏度不同。即使在主要成分相同的紙上
做分析，來自不同供應(yīng)商的硅元素的直線斜度也有差異。為了避免
此類誤差，應(yīng)對(duì)每一個(gè)供應(yīng)向的硅元素分別連立校準(zhǔn)：另外，對(duì)背
景變化進(jìn)行校準(zhǔn)可以減少錯(cuò)誤。
同一硅元素在高級(jí)日歷牛皮紙上的兩套標(biāo)準(zhǔn)，牛皮紙的生產(chǎn)日
期不同�？梢悦黠@看到，兩個(gè)試樣的斜度相同，但有些偏移。分析
者可以讓操作者從大量將被涂覆的紙中取出一未涂覆試樣插入儀器
，對(duì)背景變化進(jìn)行校準(zhǔn)。因此，隨后進(jìn)行的所有分析都對(duì)明顯的背
景變化做了校準(zhǔn)。
最后一個(gè)引起誤差的因素是高濃度的其他物質(zhì)。如聚氯乙烯(P
VC)上的硅氧烷涂層或二氧化鈦填充的薄膜。當(dāng)膜中的濃度變化時(shí)
，光譜中的硅元素區(qū)域的背景效應(yīng)發(fā)生了變化。因此，膜試樣的表
觀硅涂層的最將升高或降低-用裝在分析器中的軟件能夠很方便地
校準(zhǔn)這類下擾。光譜掃描可以識(shí)別這類干擾，并在校準(zhǔn)寸自動(dòng)補(bǔ)償
。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
特別聲明：本文出自北京上光儀器有限公司-未經(jīng)允許請(qǐng)勿轉(zhuǎn)載，本文地址：http://www.bjsgyq.com/news/10364.html
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