標(biāo)題：單晶體被加工成有著平整的或大半徑表面的小塊
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時間:2018-5-18 23:38:05
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正文:
單晶體被加工成有著平整的或大半徑表面的小塊
晶體研磨
通常，單晶體被加工成有著平整的或大半徑表面的小塊。拋光時，
這種小尺寸工件需要使用與研磨速率匹配的支撐架來擴(kuò)展模盤尺寸，以
使晶體在研磨過程中穩(wěn)定(注：研磨速率取決于晶軸的方向)。
與緊密排布的鏡盤相反，晶體鏡盤排布得較稀疏。在加工摻雜材料
時，支撐架可用不那么貴的未摻雜的存貨。
填蠟時，激光棒端面穩(wěn)固直立在支撐架上．冷卻后進(jìn)行共面研磨，
拋光整個面，使之與另一個端面平行。參考面可以有一定曲率，棒芯也
可以呈一定角度。當(dāng)然．鏡盤也可放置多個工件進(jìn)行加工。
工件進(jìn)行加工。
無論如何，拋光模溝槽應(yīng)該小于元件尺寸。毛玻璃一般用于加丁-
硬度較大的材料；錫、鉛或聚酯薄膜一般用于加工較軟的材料；金剛石
、氧化鋁、硅膠是標(biāo)準(zhǔn)的磨料。
使用 一或手工方法已經(jīng)可以實現(xiàn)晶體研磨。假設(shè)邊緣效應(yīng)是可
控的，MRF@可證明是有用的。
光滑倒角是避免劃傷的主要因素；小口徑、多次加工以及高功率相
干光可以滿足加工高質(zhì)量表面的要求。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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