標(biāo)題：表面粗糙度儀器設(shè)備門(mén)市,光學(xué)設(shè)備廠家
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2012-11-9 15:14:27
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正文:
表面粗糙度儀器設(shè)備門(mén)市,光學(xué)設(shè)備廠家
此法可使得表面得以被最佳化。
主因是稍微調(diào)整化學(xué)蝕刻混合物中的氧化劑量及調(diào)變制程參數(shù)，就可控制表面的性質(zhì)
此外，濕式化學(xué)蝕刻也移除由機(jī)械式背面研磨制程所引起的底部矽晶圓損傷，
因此增加了晶圓與晶片的強(qiáng)度，而提供了整體晶圓更均勻的表面粗糙度。
*使用到的工具和化學(xué)作用包括一臺(tái)旋轉(zhuǎn)處理器、
一臺(tái)掃描剖面輪廓儀、
一臺(tái)雙束掃描式電子顯微鏡、以及Honeywell的Texture Etch。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
特別聲明：本文出自北京上光儀器有限公司-未經(jīng)允許請(qǐng)勿轉(zhuǎn)載，本文地址：http://www.bjsgyq.com/news/3600.html
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