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正文:
用光源的方式來(lái)量測(cè)半導(dǎo)體薄膜厚度,
半導(dǎo)體工業(yè)對(duì)薄膜品質(zhì)要求越來(lái)越高,因此需要鍍制高品質(zhì)與厚度精確的薄膜;薄膜厚度的量測(cè)方式有很多種,
而光學(xué)量測(cè)是一種非破壞性的量測(cè)方式,最常用于量測(cè)鍍膜的品質(zhì)與厚度,
因此想要設(shè)計(jì)一套簡(jiǎn)易又便宜的光學(xué)量測(cè)儀器,量測(cè)樣品的反射率來(lái)推測(cè)薄膜厚度以及折射率,
目前設(shè)計(jì)出來(lái)的量測(cè)儀器,可以用來(lái)量測(cè)到波長(zhǎng) 400nm~800nm 的反射強(qiáng)度的光譜,所以觀察范圍為 400nm~800nm,
超過(guò)此范圍的收光強(qiáng)度實(shí)在是太微弱無(wú)法量測(cè),再不同時(shí)間量測(cè)的光譜,所造成的比值介于 1~1.2,
然而 10 分鐘內(nèi)把樣品量測(cè)得到的光譜比值為 0.975,所以為了避免光源強(qiáng)度改變所造成誤差值大小的問(wèn)題,
所以須在 10 分鐘內(nèi)把所有樣品量測(cè)完成,這樣才能縮小其誤差值。為了找出量測(cè)的反射率誤差值,記錄三十組數(shù)據(jù)進(jìn)行分析。
看每次量得之反射率與其平均值的差,觀察到整個(gè)系統(tǒng)的反射率偏移量大約在 2%左右
出自http://www.bjsgyq.com/
北京顯微鏡百科
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