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標(biāo)題：金屬材料機(jī)械品質(zhì)測(cè)量?jī)x器-金相顯微鏡廠家

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正文:

針對(duì)奈米線寬之銅制程所采用的高硬度的障壁層及低強(qiáng)度的多孔性材料之低介電常數(shù)材料為題材,

進(jìn)行平坦化之研磨拋光性能試驗(yàn)與探討.

由于傳統(tǒng)的CMP所設(shè)定的負(fù)載拋光應(yīng)力,作用于奈米線寬之銅制程之平坦化過(guò)程當(dāng)中.由于低介常數(shù)材料的機(jī)械強(qiáng)度

不及于以往的介電質(zhì)材料,無(wú)法丞受過(guò)大的拋光應(yīng)力.易于拋光過(guò)程當(dāng)中,

因拋光應(yīng)力過(guò)大造成低介電常數(shù)材料之微結(jié)構(gòu)的破壞,進(jìn)而影響后續(xù)產(chǎn)品的制造品質(zhì).

因此對(duì)于所采用低介電常數(shù)材料之銅導(dǎo)內(nèi)連線平坦化過(guò)程,所使用的研磨拋光應(yīng)力不宜過(guò)大,

約0.5psi左右的拋光應(yīng)力.而在如此低的研磨應(yīng)力之下,對(duì)于高強(qiáng)度的障壁阻絕層亦能有效的達(dá)到拋光的效果.

既是目前所要突破的關(guān)鍵技術(shù)

金屬材料機(jī)械品質(zhì)測(cè)量?jī)x器-金相顯微鏡廠家

出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科

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