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標題：高解析TEM電子顯微鏡觀察金屬表面分布與形貌

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正文:

高解析TEM電子顯微鏡觀察金屬表面分布與形貌

當樣品原子內(nèi)層軌道的電子受到入射的高能電子激發(fā)而脫離，留下電洞(hole)存在，較高能的外層軌道的電子會有極高的機率填補電洞的位置，

并且釋放X射線，。不同元素X射線的能量也不盡相同，所以由元素的特征X射線能量，可分辨樣品的組成。

一般來說，EDS分析元素的分辨率約小于1 %。TEM廣泛應用于觀測納米材料的形貌與分析材料的晶格結(jié)構(gòu)，

如直接度量納米線之長度與寬度，及觀察納米顆粒的形貌與晶格

在高解析TEM下的分布與形貌。當放大倍率較低時，可統(tǒng)計納米金顆粒粒徑之分布情形。提高放大倍率，

進一步可觀察到納米顆粒之形貌非為正圓形，而為有稜有角的形狀。納米科技現(xiàn)今為炙手可熱的科學研究主題之一，

然而其原理大多架構(gòu)于基礎物理與量子力學之上。想象一臺穿透式電子顯微鏡在你面前，在其中運作的電子，

可是過著相對論性的生活（光速行進），利用波的性質(zhì)將納米尺度的影像呈現(xiàn)在我們面前

出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科

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