標(biāo)題：集成電路圖形尺寸檢測(cè)金相顯微鏡制造廠商
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2014-12-8 1:50:00
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正文:
集成電路圖形尺寸檢測(cè)金相顯微鏡制造廠商
集成電路技術(shù)的基礎(chǔ)建立在對(duì)圖形再生和轉(zhuǎn)換過程的控制
上。流過集成電路的電子，只有受到很精確尺寸的通道和“墻”
的控制，才能正常工作。一旦這些關(guān)鍵尺寸發(fā)生很小的偏離，電
路就不能正常工作。因此從本質(zhì)上來說，微電子科學(xué)本身與能否
產(chǎn)生預(yù)期的圖形尺寸密切相關(guān)。由于圖形全部是微細(xì)的，因此必
須使用微細(xì)測(cè)量技術(shù)。超大規(guī)模集成電路的尺寸一般都在亞微米
級(jí)以下，這時(shí)使用光學(xué)顯微鏡就不能得到正確的結(jié)果，而只有像掃
描電子顯微鏡(SEM)一類的高能束設(shè)備才能實(shí)施微米和亞微
米圖形的測(cè)量。隨著圖形尺寸的減小，集成電路掩膜和圓片制作
工程師面臨的關(guān)鍵問題之一就是如何改善測(cè)量技術(shù)。
測(cè)量技術(shù)和測(cè)量設(shè)備。各種不同類型的設(shè)備可以造成對(duì)同一套
掩膜的不同側(cè)量結(jié)果，此外不同操作者也可造成測(cè)量的可變性。
在同一天里，同一個(gè)操作者用同一個(gè)測(cè)量設(shè)備對(duì)同一個(gè)掩膜上的同
一元素進(jìn)行多次測(cè)量，也可能得到不同的結(jié)果，這種情況是人人皆知的。
可以想象，不同的操作者使用不同的測(cè)量設(shè)備對(duì)不同的掩膜進(jìn)行測(cè)量
將會(huì)造成多大的不一致性，
隨著圖形尺寸的縮小，越來越需要排除操作者的主觀因素，
但也不能把全部問題歸咎于操作者，像差、衍射以及其他光學(xué)變
化都能經(jīng)過顯微鏡造成空間像的變化。衍射將在鉻圖形邊緣造成
明顯的花紋，形成線條邊緣由暗到明的過渡，這種類似于光學(xué)系
統(tǒng)中的愛里斑(它的直徑受衍射限制)的過渡區(qū)必須使用光學(xué)閥來
測(cè)量。一個(gè)光學(xué)系統(tǒng)中，在0.65的數(shù)值孔徑中有直徑為1.0微米的
愛里圓斑。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
特別聲明：本文出自北京上光儀器有限公司-未經(jīng)允許請(qǐng)勿轉(zhuǎn)載，本文地址：http://www.bjsgyq.com/news/6335.html
北京地區(qū)金相顯微鏡專業(yè)的供應(yīng)商
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