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正文:
在鍍層光學(xué)顯微鏡研究中,間或采用傾斜截切以提高放大倍率。
制備硬質(zhì)涂層材料時,邊緣保留不成問題,但必須注意截切和鑲嵌過
程,用SiC或金剛石輪截切,切割總是在試樣主體方向上,決不可反向
,因顯露拉力可使表面層從基體上爆裂。如果用了鍍層,則可與涂層形
成鮮明對照,必須應(yīng)用硬質(zhì)的粘合鑲嵌材料,而拋光則以形成最小浮凸
的方式完成。
石墨和夾雜物保留鑄鐵中石墨的保持是拋光中一個常見的問題,曾得
到相當?shù)闹匾。曾有過一些電解拋光溶液拋光成功的報告。但一般說來
,電解拋光不是最好的方法,一些操作者末道工序采用電機械拋光得到
滿意的結(jié)果。不過,大多數(shù)試樣還是機械拋光做出來的。
粗磨削是一道關(guān)鍵工序,如此時石墨脫落,則不可能在后續(xù)工序中回
收,從而留下一個開放的或塌陷的穴腔。因為SiC砂紙切削性好,對試
樣的損害小,故一般多用它而不用金剛砂紙,不過應(yīng)經(jīng)常更換新的。
自動磨削和拋光因施壓比人工拋光更均勻,拋光效果更好。不定向的
磨削和拋光也有益處。金剛石磨料又比粗氧化鋁的效果優(yōu)異。粗拋光用
無絨毛布最好。建議用棉織斜紋布、施加重壓進行金剛石拋光,最終拋
光用氧化鎂、擦光粗絨布。
出自http://www.bjsgyq.com/
北京顯微鏡百科
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