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電子光學儀器對材料科學領(lǐng)域的沖擊在近些年是如此巨大,以至于光學顯
微方法在很多年輕的科研工作者眼里已成了日漸衰微的老古董,在先進的研究
工作中越來越少用到,這樣的后果是很不幸的,前面已經(jīng)提到過,在檢測材料時
應當在很寬范圍的放大倍數(shù)下進行的這個有益習慣卻越來越不被人們所遵循。
該類儀器分辨率在5-10nm之間,最好的可達到1nm左右。它的非同尋
常的焦深來源于這個事實,即使用了一個非常小的數(shù)字化光闌,但這個特性對
分辨率沒什么壞的影響,此時的分辨率并不像在光學顯微鏡上受衍射的影響,
而是受各種像差的彩響。掃描電子顯微鏡可以進行成分分析
允許“原子序數(shù)襯度”,這樣不同原子序數(shù)的元素在拋光后的表面成像
呈現(xiàn)不同程度的亮度。
另一種新式常用的顯微術(shù)種類被稱為“取向成像顯微術(shù)”(Adams et al,
1993):由背散射電子產(chǎn)生的某個晶粒的圖像被電腦程序自動地破解,然后被
檢側(cè)的晶粒自動發(fā)生改變,最后利用這種方法確定下來的取向來產(chǎn)生多晶像,
這個多晶具有以不同顏色或不同厚度作為標記的晶界來代表舟個晶界取向差的
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北京顯微鏡百科
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