標(biāo)題：鉻鍍層硬度計(jì)量實(shí)驗(yàn)顯微鏡-金屬細(xì)化晶粒加工
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2015-4-25 5:13:45
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正文:
從添加甲酸的鍍液中得到的鉻鍍層硬度稍高于傳統(tǒng)的鉻鍍層
硬度，HV在1000左右。若在500-600℃熱處理，Hv可達(dá)17000
溫度繼續(xù)上開(kāi)，硬度反而下降，到1000℃時(shí)硬度又回到熱處理前
的數(shù)值。
這似乎指出兩類鍍鉻層之間除晶休結(jié)構(gòu)的差別以外，還存在著什
么本質(zhì)的區(qū)別。
從添加甲酸的槽液中獲得的鍍層中的含碳量濃度。
鍍層中的含碳量隨電鍍工藝條件而變化，甲酸濃
度和槽液溫度越高，電流密度越低，鍍層中含碳量越多，與電流
效率的規(guī)律完全相反。電沉積的效率越低，鍍層中含碳量越高。
碳占鍍層的2--4 %,意味著槽液中甲酸與鉻共析出。有機(jī)物與
金屬共析的現(xiàn)象在鍍Ni時(shí)也發(fā)生過(guò)。這些有機(jī)物在電沉積時(shí)吸
附在金屬的生長(zhǎng)面上可以細(xì)化晶粒。在添加甲酸的槽液中，由于
一般來(lái)說(shuō)，非晶態(tài)金屬具有優(yōu)良的耐蝕性能，鉻又是一種優(yōu)
良的耐蝕性能金屬，但是卻極易溶解在鹽酸中，因此可以在鹽酸
中測(cè)定經(jīng)各種溫度下熱處理后的試樣的耐蝕性，與傳統(tǒng)的鉻鍍層
相對(duì)比。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
特別聲明：本文出自北京上光儀器有限公司-未經(jīng)允許請(qǐng)勿轉(zhuǎn)載，本文地址：http://www.bjsgyq.com/news/6880.html
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