標(biāo)題：巖相實(shí)測(cè)剖面的數(shù)量建造的結(jié)構(gòu)分析便攜式顯微鏡
信息分類(lèi):站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2015-8-7 13:59:29
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正文:
巖相實(shí)測(cè)剖面的數(shù)量建造的結(jié)構(gòu)分析便攜式顯微鏡
實(shí)測(cè)剖面的目的任務(wù)
沉積地層分布區(qū)，地層剖面是研究課題的基柱，通過(guò)實(shí)測(cè)剖面，
建立地層順序，確定巖石地層、生物地層、磁性地層和生態(tài)地層的
地層單位，沉積相和古地理的研究，古生態(tài)和古氣候的研究等都是
從實(shí)測(cè)剖面入手的。
二實(shí)測(cè)剖面線的選擇
選擇剖面線的一般要求是，要選擇地層發(fā)育齊全、構(gòu)造簡(jiǎn)單、接
觸關(guān)系清楚、化石豐富、有代表性的地段、具體做法如下：
1、剖面線通過(guò)的位置，除滿足上述一般要求和研究課題的目的
要求外，還要注意地層露頭連續(xù)性是否良好，為此應(yīng)充分利用溝谷
的自然切面和人工采掘的抗穴、鐵路和公路兩側(cè)的崖壁等，作為剖
面線通過(guò)的位置。
2、實(shí)測(cè)剖面線的方向應(yīng)基本上垂直于地層走向，一般情況下兩
者之間的夾角不宜小于60°。
3、當(dāng)露頭不連續(xù)時(shí)，應(yīng)布置一些短剖面加以拼接，但需注意層
位拼接的準(zhǔn)確性，防止重復(fù)和遺漏層位，最好是確定明顯的標(biāo)示層
作為拼接剖面的依據(jù)。
4、如剖面線上某些地段有浮土掩蓋，特別是當(dāng)推測(cè)掩蓋處巖性
有變化，或產(chǎn)狀、接觸關(guān)系和地層界線等重要內(nèi)容因掩蓋而不清時(shí)
，必須使用探槽。
5、實(shí)測(cè)剖面的數(shù)量應(yīng)根據(jù)工作區(qū)巖相建造的復(fù)雜程度，厚度及
其變化情況，課題要求及前人研究對(duì)實(shí)測(cè)剖面上的各巖石地層單位
在工作區(qū)內(nèi)應(yīng)做橫向索查清面上的分布情況。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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