標題：氣體和液體硅片加工檢測金相顯微鏡
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時間:2016-12-5 1:04:44
將本頁加入收藏
下一篇：液體培養(yǎng)蘚類原絲體生實驗生物顯微鏡
上一篇：加熱爐中對玻璃坯布加熱樣品分析圖像顯微鏡
點擊查看產(chǎn)品參數(shù)和報價--丨--
---
---
---
正文:
氣體和液體硅片加工檢測金相顯微鏡
氣體和液體源要求使用開管擴散系統(tǒng)。特別是必須有一個與半導體
硅片相當?shù)臒o限雜質(zhì)量，這樣，雜質(zhì)的分布服從余誤差函數(shù)。為了
更好地控制雜質(zhì)的分布圖形，大多數(shù)的擴散采用上述的兩步擴散法
，首先，用低溫(800—l，1000攝氏度)淀積，僅在表面附近的一個
很小的區(qū)域里摻雜，然后，在無源爐內(nèi)，使雜質(zhì)在半導體硅片中進
行再分布。關(guān)于初擴散的計算，可先考慮它是余誤差函數(shù)，并依據(jù)
它是很淺的擴散從而計算出每平方厘米的雜質(zhì)濃度。再用它作為擴
散方程的有限源的邊界條件，以得到最后的解。這樣就提供了對表
面濃度和雜質(zhì)分布的控制。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
特別聲明：本文出自北京上光儀器有限公司-未經(jīng)允許請勿轉(zhuǎn)載，本文地址：http://www.bjsgyq.com/news/9194.html
北京地區(qū)金相顯微鏡專業(yè)的供應商
北京地區(qū)金相顯微鏡專業(yè)的供應商