浸蝕技術
拋光后的試片在顯微鏡下可觀察到夾雜物顆粒及孔洞，主要是因
為這些非金屬及雜物的光學反射率與金屬基材差異很大，而孔洞處的
凹陷會造成光線反射的不平均，因此在顯微鏡下觀察時，夾雜物與孔
洞呈現(xiàn)暗色而金屬基地則為亮色。若拋光面存在兩種不同的相，如果
兩相間的光學反射率差異很大，也能產生是夠的對比將其分辨出來。
對于大部分的材料，曲于拋九后的鏡面會使顯微鏡光源的入射光線造
成平行的反射，因此只能看到光亮的一邊，無法觀察到細部的組織，
將拋光面浸蝕處理后，顯微組織內的各細節(jié)(例如不同的晶粒方位，
不同的相、相邊界、晶界、微觀偏析、差排等)會對于勁蝕液反應出
不同的程度的腐蝕效應，因此浸蝕的結果將使試片拋光面產生不平坦
的地形效果，藉著光線反射將隱藏在內的顯微組織完全顯現(xiàn)出來。
浸蝕技術主要是指以化學、電化學或物理方法來呈現(xiàn)材料的顯微組
織，廣義而言，它還包刮了利用顯微鏡的特殊光學效果來達到相同的
目的，這一類的技術必頇利用特殊的光學顯微鏡，且其試片并不需做
浸蝕處理。一般而言浸蝕一詞大多是指化學浸蝕法或電解浸蝕法，這
兩種方法是目前處理金相試片最常用的方法，至于其它的方法則稱為
特殊浸蝕技術，如果是以材料表面的處理情形來區(qū)分，
又可將浸蝕技術歸類成兩類：
1. 非破壞性浸蝕(又稱光學浸蝕 optical etching)
1 偏光顯微鏡
2 暗視野顯微鏡
3 相對比(phase contrast)
4 不同對比(differential interference contrast，簡稱 DIC)顯
微鏡。
5 物理性干涉膜附著法。
2. 破壞性浸蝕(又稱一般浸蝕法 conventional etching)
1 電化學或化學法
A 熱著色法(heat tinting)
B 化學法(chemical etching)
C 電解法(electrolytic)
D 陽極法(anodizing)
E 磁性法(magnetic etching)
2 物理法
A 離子浸蝕法(ion etching 或 cathode vacuum etching)
B 熱浸蝕法(thermal etching)

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