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正文:
半導(dǎo)體制程人員(Semiconductor processors)就是自不同尺寸的磁盤上制造半導(dǎo)體的生產(chǎn)勞工。
磁盤的直徑通常是8吋到12吋,而這些被稱為晶圓
(wafers)的磁盤是薄薄的硅片,其上鋪設(shè)著一層一
層的芯片電路。每一片晶圓到最后會被切割成12顆或者是20顆的單獨芯片(chips)。
半導(dǎo)體制程人員(Semiconductor processors)使用照相平板印刷法(photo lithography)來制造晶圓,
這個方法就是從攝影的影相來產(chǎn)生圖樣的一種印刷過程。
操作自動化的設(shè)備,以把顯微的電路圖樣精確地印刷在晶圓上;利用酸類蝕刻出電路圖樣,
接著用導(dǎo)電的
金屬取代蝕刻出的電路,然后,將這些晶
圓用化學(xué)藥品洗滌一次以變得光滑,接著從新開始另一個印刷程序?qū)⑾乱粋電路圖樣印刷在新的一層上
突破解像力的限制,成為當(dāng)時極欲克服的問題。 1943年,穆勒發(fā)現(xiàn)了“場離附”(field desorption)的現(xiàn)象,
即表面若存在相當(dāng)高的正電場時,則表面電場力克服了表面附著原子(surface adsorbed atom)的束縛力,
附著原子即可脫離表面而以離子形式曳出。此現(xiàn)象立即指引出一條最佳途徑,
即采用離子取代電子作為場顯微術(shù)之投射粒子。因離子質(zhì)量遠(yuǎn)大于電子質(zhì)量,故曳出離子的切線速度分量將很小,
又此微小速度分量主要來自熱能的效應(yīng),若再降低表面溫度,即可大大地減少此種速度分量,
而滿足提高解像力之必要條件
出自http://www.bjsgyq.com/
北京顯微鏡百科
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