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正文:
1. 當寫入直線的速度固定,且顯微物鏡的 NA 一定時,寫入的光強
越強,對兩旁所影響的范圍有漸漸變大的趨勢。
2. 顯微物鏡之 NA 值越大,寫入的光點就越小。所寫入之直線,對
兩旁所影響的范圍就越小,這是我們所樂于見到的,因為如此一
來可以提升灰階光罩的線寬
繞射光柵之灰階光罩制作
接下來的實驗,將是采用 NA 為 0.25 的顯微物鏡來研究。
為不同寫入功率所對產生的最高穿透率圖,選用的是玻片 type1,寫
入為速度 250μm/s,顯微物鏡 NA=0.25。找到不同光強所能對玻片產
生之穿透率;译A光罩的制作原理也是控制激光光強,在玻片上寫出
我們想要的灰階光罩
選用波長 532nm 之半導體激光,功率達 150mW。
激光束先經過聲光調制器(Acoustic Optic Modulator,AOM),
由 AOM 可用來控制入射光的寫入時間及光強,其中電壓可
控制光強,而寫入時間的則可用電腦來控制。AOM 是用電壓來驅動
元件中的聲波,進而在 AO 晶體內部形成光柵,而此光柵便可將入射
光作繞射,而由輸入的電壓的大小及時間,便可控制繞射光的強度。
由此我們可由電腦中的輸出電壓來控制光強。接下來激光寫入的光路
再經過擴束系統(tǒng),使光束擴大并平行化到約 10mm,最后經顯微物鏡
聚焦在激光直寫玻片上,形成直徑約數個微米的圓形光點。此光點大
小直接關聯(lián)到機臺的分辨率
出自http://www.bjsgyq.com/
北京顯微鏡百科