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標題:測量覆層厚度試樣制備金相分析圖像顯微鏡

信息分類:站內(nèi)新聞   作者:yiyi發(fā)布   時間:2016-5-7 20:36:02 將本頁加入收藏

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正文:

測量覆層厚度試樣制備金相分析圖像顯微鏡

利用雙光束干涉顯微鏡測量不透明覆層厚度

    測量不透明覆層厚度時必須采用破壞的方法,為此在測量之
前要進行試樣的制備。
    試樣制備是將待測件被測處的覆層去掉一部分,露出基體和
形成臺階.對于某些覆層可選用適當?shù)耐四ひ和说粢徊糠,而?/div>
退掉的覆層可用一圈膠帶粘貼上而加以保護。
為了得到多光束干涉條紋,一般應滿足下列條件:
    (1)干涉面應噴涂一層高反射系數(shù)的薄膜,而且膜的吸收
系數(shù)很。  
    (2)薄膜噴涂層如銀或鋁的厚度應十分均勻;
    (3)采用單色光源;
    (4)兩反射面間的距離越小越好,最好只是單色光源波長
的幾倍;
    (5)入射光波應為一平行光束;
    (6)入射光束應盡可能垂直于試樣表面.

線性偏振光以一定角度照射有覆層的零件表面,在光通過覆
層表面以及覆層與基體界面會產(chǎn)生反射,并將產(chǎn)生橢圓偏振光。
根據(jù)偏振光的種類和偏振程度,通過計算可確定覆層厚度。
    偏振光法測量覆層厚度通常是在由起偏器、補償器、檢偏器
等偏振元件制成的偏振光顯微鏡上進行。偏振光顯微鏡是利用尼
科爾棱鏡來產(chǎn)生偏振光,稱之為起偏振片或起偏器。在起偏器的
后面插入一個同樣的起偏振片,它用來檢定起偏器所形成的偏振
光,稱之為檢偏器或分析器。











出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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