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標(biāo)題:硅芯片試樣檢測實驗顯微鏡- 硅晶片表面粗糙度

信息分類:站內(nèi)新聞   作者:yiyi發(fā)布   時間:2013-10-26 0:01:31 將本頁加入收藏

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正文:

硅芯片試樣檢測實驗顯微鏡- 硅晶片表面粗糙度

碳、硅含量皆太高時

若碳、硅含量皆高于目標(biāo)值時,通常加入廢鋼料,以降低碳、硅含量。
范例:
現(xiàn)有一爐 2 噸鐵水,其目標(biāo)成份為:碳 3.6%,硅 1.8%。目前經(jīng)碳當(dāng)量測
定儀測得其成份為:碳 3.8%,硅 2.0%,請問要再加入多少廢鋼,才能符合目
標(biāo)值(廢鋼之含碳量為 0.2%)。
解答:
(一)因廢鋼中不含硅量,故可從目標(biāo)之硅量著手,進而計算出加入之廢鋼
量。假設(shè)欲達目標(biāo)硅量,所需之總鐵水量為 Xkg,則
X×1.8%=2000×2.0% (因硅量不因廢鋼加入而增加)
➾X=2000×2.0% ÷1.8%
≒2222kg
即尚須加入 2222kg-2000kg=222kg 之廢鋼,方能符合硅之目標(biāo)值。
(二)現(xiàn)在,若加入廢鋼 222kg 時,硅量可達目標(biāo)值,但碳含量卻不知是否
符合目標(biāo)值,因此,必須加以計算。
(1)目前爐內(nèi)之碳量為:
2000kg×3.8%=76kg …………(1)
若加入廢鋼 222kg 于電爐內(nèi)時,其碳量為:(廢鋼之碳含量為 0.2%)
76kg+222×0.2%=76.444kg…………(2)
因此,加入廢鋼后之碳含量將變?yōu)?/div>
(76.444/2222)×100%≒3.44%…………(3)
所以由(3)式知加入廢鋼后,碳含量反而低于目標(biāo)值,因此,必須再加
入加碳劑調(diào)整之。(依 40 頁之范例計算之)
2222kg/爐×(3.6–3.44)%≒35.5kg
35.5kg÷90%≒39.4kg
(三)經(jīng)由上述計算結(jié)果,必須加入廢鋼 222kg 及加碳劑 39.4kg,方能調(diào)整
鐵水成份于目標(biāo)值內(nèi)










出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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